目前，中国<10t / h的燃煤锅炉大多使用煤和尾部湿法简单脱硫技术。煤中硫含量<0、5％，灰分约为10％，简单脱硫效率一般为30％至50％； ≥10t/ H的燃煤锅炉大多使用大麻水膜脱硫和除尘器。吴兴热处理炉脱硫效率通常为30％至60％，除尘效率大于96％。通过“九五”规划，我国工业锅炉烟气脱硫技术得到了进一步发展。 “湿法脱硫除尘工艺及设备研究”是针对我国燃煤量大，种类差异大的中小型燃煤锅炉现状的科技攻关项目。煤炭的使用，是影响中国城市大气环境质量的主要污染源。它是在“第八个五年”技术研发的基础上开发出的五类产品和典型的脱硫工艺系列，已在工程中应用。吴兴热处理炉具有广泛的应用范围，性能稳定，投资和运营成本低。同时，它解决了常见问题，例如灰水污染的水体，使用寿命短，严重的设备水残留以及钙基脱硫系统易于结垢。它的整体研究是先进的，并且已经获得了四项中国zhuanli。这是一种适合中国国情的实用技术

吴兴热处理炉一、用处：本井式球化退火炉适用于钢带、铜带、线材等工件停止光亮退火用，回火。同时也供其他机件热处置之用。二、主要技术参数： 1、额定功率：280KW±10% 2、额定电压：380V 3、额定温度：950℃ 4、运用温度：0－950℃ 5、频 率：50HZ 6、相 数：3相 7、工作尺寸:Φ1800×3000mm 8、空炉升温时间：≦1.5h 9、空炉损耗功率：44KW 10、控温区数：3区 11、控制方式：P I D 12、炉温平均性：±10℃ 13、接法：Y 14、最 大装载量：5000kg.三、炉型构造：本井式球化退火炉是由炉体、炉衬、加热元件、炉胆、及控制系统等吴兴热处理炉附件组成。 ⑴ 炉体炉体是采用国标型钢和钢板卷成圆桶焊接而成，角钢卷增强，槽钢底座，构造结实.

吴兴热处理炉由炉体，炉门，加热元件，通风机构和控制系统组成。吴兴热处理炉炉体由型钢和钢板焊接而成。炉衬的内壁通过不锈钢板整体与炉壳连接。炉体和炉套中填充了硅酸铝耐火纤维以进行隔热。炉门设计在炉体的下部，这意味着工件从下方进入和离开。 炉体的下部开口被打开，并且炉门的打开和关闭动作被机械地驱动，并且由电动机，减速齿轮箱，链轮，链条，轨道等完成。加热元件采用高电阻合金电阻带，该电阻带通过特殊的挂钩布置在衬套的两侧，以与衬套绝缘。风扇由鼓风机和导风板组成。 鼓风机电机和加热元件电气互锁。 只有在鼓风机打开后才能给加热元件通电。 这确保了加热元件可以在通风循环中工作。 在炉体的下部设有一个池，以便工件可以在短时间内进入池中进行淬火处理。控制部分采用晶闸管和数显表控制温度和报警。电炉在门的开闭机构和装卸机构上装有限位开关。 该开关连接到控制柜电源。

吴兴热处理炉的基本定义：通常，带有马弗炉保护网带的吴兴热处理炉可在炉中连续运输零件，主要用于粉末冶金产品的烧结，金属粉末的还原以及电子产品的预烧。保护性气氛或空气焙烧或热处理过程。整套设备由炉体，网带传动系统和温度控制系统组成。炉体由进料段，预煅烧段，烧结段，缓冷段，水冷段和出料段组成。网带传动系统由耐高温网带和传动装置组成。网带的运行速度通过变频器进行调节，该变频器配有数字显示网带速度测量装置；网带的速度可以直接读取； 温度控制系统由热电偶组成。数显式智能PID调节器和晶闸管组成闭环控制系统，可实现自动，准确的温度控制。加热元件采用FEC陶瓷加热板或陶瓷加热棒。温度控制系统由日本进口的多段智能程序温度控制器控制。可以根据需要配置数据通信接口。变频无级调速，耐热钢网带传动，大角度张紧器设计理念确保平稳的产品交付。

吴兴热处理炉整个炉体被封闭在钢结构框架中。吴兴热处理炉①加热室②加热元件③炉④风扇⑤炉门⑥淬火油位于炉子下方，是一种防水混凝土结构，直径为4米，深度为20米，或者根据其长度而更深 淬火挤压产品。吴兴热处理炉加热炉的中心相对于淬火池偏心1.2米，因此首先使用电动葫芦将提升机提升到淬火池中。然后平移到熔炉，然后使用提升链（由提升驱动）到熔炉中的适当高度，直到提升电源自动关闭。 提升速度为0.4 m / s。淬火过程中的下降速度为0.4〜0.6 m / s。对于大型挤出产品，可以将其单独淬火。炉体框架配备有用于提升和平移炉门的液压缸。炉门本身装有石棉密封。在加热室和绝缘层之间，具有宽度为250mm的环形凤凰，并且在其中安装有加热元件。炉子的加热室通过薄板与加热元件隔开。风扇安装在炉子下方的平台上，电动机功率为70千瓦。送出的空气通过加热室和加热元件之间的通道进入加热室，形成一个强制性热空气循环的封闭系统。 加热过程完成后，打开炉门，将装料直接放入淬火槽中。吴兴热处理炉分为五个加热段，每个段可以从三角形连接转换为星形连接。使用五个电子电位器自动调节并记录温度。

吴兴热处理炉是用于制造半导体器件的过程，该过程包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。 热处理旨在实现不同的效果。 可以加热晶圆以激活掺杂剂，将薄膜转化为薄膜或将薄膜转化为晶圆基材界面，制造致密的沉积薄膜，改变生长薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或掺杂剂 该试剂从一个膜转移到另一膜或从膜转移到晶片衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，也可以单独处理。 吴兴热处理炉由设计用于加热半导体晶片的设备完成。 退火炉是一种具有超节能结构和纤维结构的节能循环式操作炉，可节电60％。根据热源的分类，将退火炉分为电加热炉，燃煤退火炉，燃油退火炉，天然气退火炉和气体退火炉。 其中，由自备的气体发生器生产的气体退火炉被广泛使用。 气体退火炉消除了燃烧室，直接使用气体燃烧器将燃烧喷入加热室。 为了减少能量消耗，气体退火窑通常配备有热交换系统，该系统将空气转换成支持燃烧的热空气用于气体燃烧。